半导体制造涉及光刻、刻蚀、沉积、离子注入等精密工序，每一步都要求零部件表面洁净，才不会破坏芯片质量。而精密清洗，是让这些零部件 “焕新”，维持高性能运转的关键环节。
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精密清洗原理
半导体设备零部件精密洗净再生技术是通过化学和物理的方法把精密parts上的膜质或其它粒子清除掉，再运用物理与化学抛光、喷砂、热喷涂和电镀表面处理的方法再生处理parts表面，使其达到循环再使用的功能。
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精密清洗流程
精密洗净服务已成为精密生产设备部件组装前的先决条件，也是制程设备的日常保养和维护的先决条件，精密设备部件洗净的质量将直接影响产品生产良率和生产成本。
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