真空镀膜是一种通过物理气相沉积（PVD）技术，在真空环境下将金属或化合物蒸镀到材料表面的工艺。它广泛应用于电子、光学、装饰和功能性领域，尤其适合无法进行传统电镀的塑料件。以下是关于真空镀膜的详细解析：一、真空镀膜的核心原理物理气相沉积（PVD）：在高真空（≈10⁻³~10⁻⁶ Pa）环境中，金属或非金属材料